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통신과 집적 회로, 컴퓨터 공업 분야의 시장 조사에서 세계적으로 높이 평가 받고 있는 The Information Network (본사:펜실베니아주)에서는 서브 100nm 리소그라피 기술 시장 및 전략적 과제에 관하여 조사 분석하고 정리한 보고서 “Sub 100-nm Lithography: Market Analysis and Strategic Issues” 을 발행하였습니다.
본 보고서는 광학 시스템, X선 시스템, 전자 빔, 이온 빔 시스템과 같은 각종 리소그라피 기술의 동향과 과제, 공급자의 전략과 향후 예측 등에 대해 대략 아래와 같은 구성으로 전해 드립니다.
제3장 리소그라피의 과제와 동향
- 광학 시스템
- 주사식 프로젝션
얼라이너
- 스텝 & 리피트
얼라이너
- 248nm DUV 레지스트
- 193nm DUV 레지스트
- Mix-and-Match
- 157nm DUV와 레지스트
- EUV
- X선 시스템
- 신기술
- Mulith Reference Distribution
Aerial Image Formation
- 홀로그램
- X선 레이저
- 원자 리소그라피
- 마이크로 렌즈
- 나노 인플린트 리소그라피
- 액침 리소그라피
- 리소그라피의 소유 비용 분석
- 개요
- 소유 비용 모델
- 소유 비용 계산 결과
- 개별 개산 비용
제4장 공급자의 전략
- 리소그라피에 대한 요구의 정의
- 벤더의 벤치마킹
- 가격
- 벤더의 방안과 자세
- 벤더의 능력
- 시스템 성능
- 기기 평가 중인 벤더 피드백
- 기기 생산 중인 벤더 피드백
- 경쟁 환경
- 클래스 1 클린룸용 기기
- 미래형 공장용 기기
- 시장 기회
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