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다양한 최첨단 산업의 전략적 조사를 전문으로 하고 있는 미국의 조사회사 Technical Insights, Inc. (본사 : 텍사스주) 에서는 세계 반도체 마이크로 리소그래피 (미세가공기술)의 진보에 대한 조사 분석 보고서 "Global Advances in Semiconductor Microlithography Technologies"를 발행했습니다.
광학 리소그래피, EPL과 마스크리스 리소그래피, 나노임프린트 리소그래피 등 차세대의 각종 리소그래피 기술에 대해 조사 분석하고 이점, 과제, 세계의 개발사례, 향후 전망, 자금조달 동향 등에 대해 전해드립니다.
제1장 개요
- 리소그래피 기술의 개요
- 반도체 제작의 리소그래피 기술 및 그 역할
- 초점ㆍ주요 조사 결과
- 조사 범위ㆍ조사 방법
제2장 차세대 리소그래피의 탐구
- 중요성
- 차세대 리소그래피 후보의 분석
- 차세대 리소그래피의 동향
- 차세대 리소그래피 기술
제3장 광학 리소그래피
- 광학 리소그래피의 개요 및 현재
- 광학 리소그래피 : 개요
- 광학 리소그래피의 현재와 개발 동향
- 액침 리소그래피
- 액침 리소그래피 : 개요
- 액침 리소그래피의 기술상 과제
- EUVL
- EUVL의 개요
- 기술상의 이점
- EUVL의 연구 그룹
- EUVL의 기술상 과제
- 157nm 리소그래피
- 주요 기술개발 Ⅰ
- 주요 기술개발 Ⅱ
제4장 EPL과 마스크리스 리소그래피
- 서론
- 마스크리스 리소그래피
- 전자빔 리소그래피
- O-ML2와 CP-ML2
- 이온빔 리소그래피
- 믹스 & 매치 전략
- EPL
- LEEPL
- 주요 기술개발
제5장 나노임프린트 리소그래피
- 서론ㆍ기술 개요
- 주요 도입인자
- NIL 기술의 이점
- 주요 과제
- 기술요건 및 NIL의 현재
- 주요 기술개발
제6장 차세대 리소그래피 시장의 예측 및 자금조달 분석
- 향후 전망
- NGL 기술의 개요
- 광학 리소그래피의 향후
- 32nm을 위한 157nm 액침 리소그래피, 등
- 주요 조사결과ㆍ재무지원
ksm
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