Ȩ Ä«Å×°í¸® ¸ÂÃãÇü½ÃÀåÁ¶»ç ±¹Á¦ÄÁÆÛ·±½º ±Û·Î¹ú ÆÄÆ®³Ê ¸ÞÀϸµ ¼­ºñ½º ȸ»ç¼Ò°³È¸»ç¼Ò°³ Contact Us
English Japaness Chinese
Home > ½ÃÀ庸°í¼­ > ÀüÀÚºÎǰ/¹ÝµµÃ¼ > ¹ÝµµÃ¼ Àç·á > ¹ÝµµÃ¼ È­ÇмÒÀç ºÐ¼® : CMP Slurry & Pad - 2009³â
Ä«Å×°í¸®
ÀüÀÚºÎǰ/¹ÝµµÃ¼ (1962)
µð½ºÇ÷¹ÀÌ (226)
¸â½º(MEMS) (88)
¹ÝµµÃ¼ Àç·á (77)
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶Àåºñ (456)
¼¾¼­ (207)
ÀμâÀüÀÚ (122)
Á¶¸í/LED (177)
Ä¿³ØÅÍ (57)
ÆÄ¿öµð¹ÙÀ̽º (122)
½ÃÀ庸°í¼­

¹ÝµµÃ¼ È­ÇмÒÀç ºÐ¼® : CMP Slurry & Pad - 2009³â

Semiconductor Material Analysis 2009: CMP Slurry & Pad

¸®¼­Ä¡»ç DisplayBank
¹ßÇàÀÏ 2009³â 05¿ù »óǰÄÚµå 95290
ÆäÀÌÁö Á¤º¸
°¡°Ý
US $ 5,500 £Ü 6,245,200 PDF By E-mail


DisplayBank ¿¡¼­ 2009³â 05¿ù ¿¡ ¹ßÇàÇÑ ¡¸¹ÝµµÃ¼ È­ÇмÒÀç ºÐ¼® : CMP Slurry & Pad - 2009³â¡¹ º¸°í¼­´Â US $5,500 ºÎÅÍ ±¸¸Å °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.

Çѱ۸ñÂ÷

¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ °¡¿îµ¥¼­µµ Àç·á ƯÈ÷ È­ÇÐ Àç·á ºÐ¾ß´Â ÇâÈÄ ¹ßÀü¿¡ ÀÖ¾î °¡Àå Å« ¿ªÇÒÀ» ´ã´çÇϸç ÁÖ¸ñ ¹Þ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

CMP(È­ÇÐ ±â°è ¿¬¸¶) ±â¼ú, ÁÖ¿ä Á¦Á¶»ç, ¼¼°è CMP ½½·¯¸® ¹× ÆÐµå ½ÃÀåÀÇ µ¿Çâ, Çѱ¹ ½ÃÀå µ¿Çâ, ½ÃÀå ºÐ¼®À̶õ 5°³ Ç׸ñÀ» ÁÖÁ¦·Î ¼³Á¤ÇÏ¿© ±× °ËÁõ Á¤º¸¸¦ ÀüÇØµå¸³´Ï´Ù.

    Á¦1Àå È­ÇÐ ±â°è ¿¬¸¶ ±â¼ú
    • ¼­·Ð
    • ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ ÇÁ·Î¼¼½º
    • Æòźȭ(Planarization)
      • Æòźȭ¶õ?
      • Á¾·¡ÀÇ ¹æ¹ý
    • CMP
      • CMP¶õ?
      • CMP¿¡ µû¸¥ ¸ÖƼ·¹ÀÌ¾î ±Ý¼Ó ¹è¼±
      • Æòźȭ ¹× ºñÆòźȭ Ç¥¸é¿¡ µû¸¥ ¸ÖƼ·¹ÀÌ¾î ±Ý¼Ó ¹è¼±
      • ¿ìÀ§Á¡°ú °áÁ¡
      • CMPÀÇ ¸ÞÄ«´ÏÁò
      • CMPÀÇ ¿ëµµ
    • CMP ÆÐµå
    • CMP ½½·¯¸®
    Á¦2Àå ÁÖ¿ä ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç
    • ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç
      • Áö¿ªº°·Î º» ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç
      • Á¦Ç° ºÎ¹®º°·Î º» ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç
    • ÁÖ¿ä ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç
    Á¦3Àå ¼¼°è CMP ½½·¯¸® ¹× ÆÐµå ½ÃÀå µ¿Çâ
    • ¼¼°èÀÇ ½ÃÀå µ¿Çâ : 2008¡­2011³â
      • CMP ÆÐµå
      • ILD ½½·¯¸®
      • W ½½·¯¸®
      • Cu ½½·¯¸®
      • AI ½½·¯¸®
      • STI ½½·¯¸®
      • Poly-Si ½½·¯¸®
      • CMP ½½·¯¸® : Àü¹Ý
    • Áö¿ªº° ½ÃÀå µ¿Çâ : 2008¡­2011³â
      • CMP ÆÐµå
      • ILD ½½·¯¸®
      • W ½½·¯¸®
      • Cu ½½·¯¸®
      • AI ½½·¯¸®
      • STI ½½·¯¸®
      • Poly-Si ½½·¯¸®
    Á¦4Àå Çѱ¹ÀÇ ½ÃÀå µ¿Çâ
    • Á¦Á¶ »óȲ
    • ½ÃÀå µ¿Çâ : ILD ½½·¯¸®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ÆÇ¸Å¼ö·®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ¸ÅÃâ°í
      • °ø±Þ¸Á
    • ½ÃÀå µ¿Çâ : W ½½·¯¸®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ÆÇ¸Å¼ö·®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ¸ÅÃâ°í
      • °ø±Þ¸Á
    • ½ÃÀå µ¿Çâ : Cu ½½·¯¸®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ÆÇ¸Å¼ö·®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ¸ÅÃâ°í
      • °ø±Þ¸Á
    • ½ÃÀå µ¿Çâ : STI ½½·¯¸®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ÆÇ¸Å¼ö·®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ¸ÅÃâ°í
      • °ø±Þ¸Á
    • ½ÃÀå µ¿Çâ : Poly-Si ½½·¯¸®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ÆÇ¸Å¼ö·®
      • ¶óÀκ° ½ÃÀå µ¿Çâ : ¸ÅÃâ°í
    Á¦5Àå ½ÃÀå ºÐ¼®
    • ½ÃÀå ºÐ¼® : ILD ½½·¯¸®
      • ½ÃÀå ¿¹Ãø
      • °¡°Ý µ¿Çâ
      • »ê¾÷ ºÐ¼®
    • ½ÃÀå ºÐ¼® : ±Ý¼Ó ½½·¯¸®
      • ½ÃÀå ¿¹Ãø
      • °¡°Ý µ¿Çâ
      • »ê¾÷ ºÐ¼®
      • Cu ½½·¯¸® ¼ö¿ä : Cu °¡°ø ¶óÀÎ
    • ½ÃÀå ºÐ¼® : ¼¼¸®¾Æ ½½·¯¸®
      • ½ÃÀå ¿¹Ãø
      • °¡°Ý µ¿Çâ
      • »ê¾÷ ºÐ¼®
pmh
Back to Top