|
½ÃÀ庸°í¼
¼¼°èÀÇ IC Á¦Á¶¿ë ±â±â ¹× Àç·á ½ÃÀå
The Global Market for Equipment and Materials for IC Manufacturing
|
The Information Network ¿¡¼ 2012³â 04¿ù ¿¡ ¹ßÇàÇÑ ¡¸¼¼°èÀÇ IC Á¦Á¶¿ë ±â±â ¹× Àç·á ½ÃÀ塹 º¸°í¼´Â US $4,995 ºÎÅÍ ±¸¸Å °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
IC Á¦Á¶¿¡ °ü·ÃµÈ °¢Á¾ ±â±â ¹× Àç·á ½ÃÀåÀÇ µ¿Çâ, °úÁ¦ ¹× ÇâÈÄ Àü¸Á µî¿¡ ´ëÇØ ÀüÇØµå¸³´Ï´Ù. Á¦2Àå ÀúÀ¯Àüü Ãþ°£ Àý¿¬Ã¼ÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ¼·Ð
- ÀÌ»óÀûÀÎ À¯Àüü
- ÀúÀ¯Àüü Ãþ°£ Àý¿¬Ã¼ÀÇ Á¾·ù
- FSG
- HSQ
- Nanoporous Silica
- Spin-on Polymers
- BCB
- Flowfill
- CVD
- AF4
- PTEE
- ¿ä¾à
- ÇÁ·Î¼¼½Ì °ü·Ã °úÁ¦
- ÅëÇÕ °ü·Ã °úÁ¦
Á¦3Àå ¸®¼Ò±×·¡ÇÇÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ±¤ÇÐ ½Ã½ºÅÛ
- X¼± ½Ã½ºÅÛ
- ÀüÀÚºö ½Ã½ºÅÛ
- À̿ºö ½Ã½ºÅÛ
- ³ª³ëÀÓÇÁ¸°Æ® ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ(NIL:Nano Imprint Lithography)
- ½Å±â¼ú
- ¸®¼Ò±×·¡ÇÇÀÇ ¼ÒÀ¯ ºñ¿ë¿¡ ÀÖ¾î¼ÀÇ Çõ½Å
- °á·Ð
Á¦4Àå CMPÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ÆòźÈÀÇ Çʿ伺
- ¿ëµµ
- ÆòÅºÈ ±â¼ú
- CMP
- ¹è°æ
- Á¶»ç ¸ñÀû
- ÀÌÁ¡ ¹× °áÁ¡
- ÇÁ·Î¼¼½º ÆÄ¶ó¹ÌÅÍ
Á¦5Àå °øÀåÀÚµ¿È(FA : Factory Automation)ÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ÀÚµ¿ÈÀÇ ¿ä¼Ò
- Ç÷º½Ãºí ¿ÀÅä¸ÞÀ̼Ç
- ½Å·Ú¼º
- Åø °ü·Ã °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ
Á¦6Àå ¹Ú¸· ÁõÂøÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ Á¦7Àå ÇöóÁ ¿¡ÄªÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ¼·Ð
- ÇÁ·Î¼¼½Ì °úÁ¦
- ÇöóÁ ½ºÆ®¸³ÇÎ
Á¦8Àå Ŭ·¯½ºÅÍ ÅøÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - Á¤ÀÇ
- µð¹ÙÀ̽º ±â¼ú ¹× ÅëÇÕ ÇÁ·Î¼¼½Ì
- ÁÖ¿ä ±â´É À¯´Ö
- Ŭ·¯½ºÅÍ Åø Ä¿¹Â´ÏÄÉÀ̼Ç
- Áø°ø ½Ã½ºÅÛ ¼³°è
- µ¿Çâ
Á¦9Àå ¾àǰ ¹× Àç·áÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ¾×ü ¾àǰ
- ¼øµµ ¿ä°Ç
- ¾àǰ °ü¸®
- ±âü
- ¾àǰ °ü¸®
- ½ºÆÛÅ͸µ ¹× ÁõÂø Àç·á
Á¦10Àå ¿À¿°ÀÇ °úÁ¦ ¹× µ¿Çâ - ¾×ü ¾àǰ
- ±âü
- Å»À̿¼ö
- ó¸® ±â±â
Á¦11Àå ÃøÁ¤ - °áÇÔ°Ë»ç/¿þÀÌÆÛ °Ë»ç
- ¹Ú¸· ÃøÁ¤
- ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ ÃøÁ¤
Á¦12Àå ½ÃÀå ¿¹Ãø - ½ÃÀå ¿µÇâ¿äÀÎ
- ½ÃÀå ¿¹Ãø ÀüÁ¦Á¶°Ç
- Low-K
- ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ
- CMP
- FA
- ¹Ú¸· ÁõÂø
- ÇöóÁ ¿¡Äª
- Ŭ·¯½ºÅÍ Åø
- ¾àǰ ¹× Àç·á
- Ŭ¸°·ë ¹× ¿À¿°
- ÃøÁ¤
LSH
|