|
½ÃÀ庸°í¼
¼¼°èÀÇ Æ÷Å丶½ºÅ© ½ÃÀå
Semiconductor Photomask Characterization Study
| ¸®¼Ä¡»ç |
SEMI |
| ¹ßÇàÀÏ |
2011³â 03¿ù |
»óǰÄÚµå |
179828 |
| ÆäÀÌÁö Á¤º¸ |
15 Pages |
| °¡°Ý |
|
|
SEMI ¿¡¼ 2011³â 03¿ù ¿¡ ¹ßÇàÇÑ ¡¸¼¼°èÀÇ Æ÷Å丶½ºÅ© ½ÃÀ塹 º¸°í¼´Â 15 Pages·Î ±¸¼ºµÇ¾î, US $895 ºÎÅÍ ±¸¸Å °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.
¼¼°èÀÇ Æ÷Å丶½ºÅ©(Photomask) ½ÃÀå ±Ô¸ð´Â 2010³â 30¾ï ´Þ·¯·Î ¿¹»óµÇ¸ç, 2012³â¿¡´Â 32¾ï ´Þ·¯¿¡ ´ÞÇÒ Àü¸ÁÀÔ´Ï´Ù. ¼¼°èÀÇ ÁÖ¿ä 7°³ Áö¿ª(¹Ì±¹, ÀϺ», À¯·´, ´ë¸¸, Çѱ¹, Áß±¹, ±× ¿Ü)¿¡¼ Æ÷Å丶½ºÅ© ½ÃÀå °ø±Þ Ãø¸éÀÇ Æ¯¼ºÀ» ºÐ¼®ÇÏ°í ½ÃÀå ±Ô¸ð, ±â¾÷ À繫 º¸°í¼ µîÀ» ÀüÇØµå¸³´Ï´Ù. - °³¿ä
- ½ÃÀå ¹è°æ
- Á¶»ç ¹æ¹ý
- °³¿ä
- ±â¼ú µ¿Çâ
- ½ÃÀå µ¿Çâ
- ¿ä¾à
- ºÎ·Ï
- 2010³â Æ÷Å丶½ºÅ©¿Í ·¹Æ¼Å¬(Reticle)¿¡ °üÇÑ Á¶»ç
- Æ÷Å丶½ºÅ© ¼ÇöóÀ̾îÀÇ À¥»çÀÌÆ® ¿ä¾à
- Æ÷Å丶½ºÅ© ¼ÇöóÀ̾îÀÇ ÅëÇÕ È帧µµ(1986³â~ÇöÀç)
- µµÇ¥
KJS
|