Ȩ Ä«Å×°í¸® ¸ÂÃãÇü½ÃÀåÁ¶»ç ±¹Á¦ÄÁÆÛ·±½º ±Û·Î¹ú ÆÄÆ®³Ê ¸ÞÀϸµ ¼­ºñ½º ȸ»ç¼Ò°³È¸»ç¼Ò°³ Contact Us
English Japaness Chinese
Home > ½ÃÀ庸°í¼­ > ÀüÀÚºÎǰ/¹ÝµµÃ¼ > ¸â½º(MEMS) > ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ±âÆÇ ½ÃÀå°ú °øÁ¤ µ¿Çâ
Ä«Å×°í¸®
ÀüÀÚºÎǰ/¹ÝµµÃ¼ (1998)
µð½ºÇ÷¹ÀÌ (217)
¸â½º(MEMS) (100)
¹ÝµµÃ¼ Àç·á (76)
¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶Àåºñ (463)
¼¾¼­ (195)
ÀμâÀüÀÚ (122)
Á¶¸í/LED (189)
Ä¿³ØÅÍ (58)
ÆÄ¿öµð¹ÙÀ̽º (108)
½ÃÀ庸°í¼­

¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ±âÆÇ ½ÃÀå°ú °øÁ¤ µ¿Çâ

Microfluidic Substrates, Market and Processing trends

¸®¼­Ä¡»ç Yole Developpement
¹ßÇàÀÏ 2011³â 07¿ù »óǰÄÚµå 206537
ÆäÀÌÁö Á¤º¸
°¡°Ý
US $ 5,390 £Ü 6,378,500 PDF by E-mail ( Single User License)
US $ 7,990 £Ü 9,455,300 PDF by E-mail (Corporate Use License)


Yole Developpement ¿¡¼­ 2011³â 07¿ù ¿¡ ¹ßÇàÇÑ ¡¸¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ±âÆÇ ½ÃÀå°ú °øÁ¤ µ¿Ç⡹ º¸°í¼­´Â US $5,390 ºÎÅÍ ±¸¸Å °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.

Çѱ۸ñÂ÷

¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ±â¼úÀº ÀÇÇÐÀûÀÎ Áø´ÜÀ̳ª »ý¸í°úÇÐ ºÐ¾ß ¿¬±¸, ¾à¹° Àü´Þ(Drug Delivery), ¾àǰ ÇÕ¼º µîÀÇ ¿ëµµ¿¡¼­ Áß¿äÇÑ ¿ªÇÒÀ» ´ã´çÇÏ°Ô µÇ¾úÀ¸¸ç, 2016³â ½ÃÀå ±Ô¸ð´Â 50¾ï ´Þ·¯ ÀÌ»ó¿¡ µµ´ÞÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµË´Ï´Ù. ÇöÀç Àç·á¿¡ °üÇÑ ½ÇÁúÀû ±âÁØÀº Ã¥Á¤µÇ¾î ÀÖÁö ¾ÊÁö¸¸, ½ÃÀå È®´ë·Î ÀÎÇØ Àú°¡ ÀÏȸ¿ë µð¹ÙÀ̽º¿Í °í¹Ðµµ, °íÁ¤¹Ðµµ ĨÀ¸·Î ³ª´©¾îÁö´Â °æÇâÀÌ ¶Ñ·ÇÇØÁö°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ Á¦Ç° ¼³°è ¹× ½ÃÇè Á¦ÀÛ µî¿¡¼­ ¿ì¼öÇÑ ±âÁ¸ ±â¾÷°ú Á¦Á¶ ±â¼ú ¹× »ý»ê´É·Â Ãø¸é¿¡¼­ ¿ìÀ§¿¡ ÀÖ´Â ´ëÇü MEMS Á¦Á¶¾÷ü ¹× ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¾÷ü »çÀÌ¿¡¼­ °æÀïÀÌ °ÝÈ­µÇ´Â °æÇâÀÌ º¸À̰í ÀÖÀ¸¹Ç·Î ÇâÈÄ µ¿ÇâÀÌ ÁÖ¸ñµË´Ï´Ù.

Àç·á ¹× Á¦Á¶ ±â¼ú, ÁöÀûÀç»ê, ÆÐŰÁö, ǰÁú °ü¸® µîÀ» Æ÷ÇÔÇÑ ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼(Microfluidic) µð¹ÙÀ̽ºÀÇ ¹ë·ùüÀÎÀ» Á¾ÇÕÀûÀ¸·Î ºÐ¼®Çϰí, 2016³â±îÁöÀÇ Àü¸Á, ½ÃÀå ÇöȲ ¹× ºñ¿ë ºÐ¼®, Àç·á ¹× Á¦Á¶ ±â¼ú µîÀÇ Á¤º¸¸¦ ÀüÇØµå¸³´Ï´Ù.

    Á¦1Àå °³¿ä
    Á¦2Àå ¼­·Ð
    Á¦3Àå ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ½ÃÀå
    • ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå ¿¹Ãø
      • ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ ÄÄÆ÷³ÍÆ® ½ÃÀå
      • ¼¼°èÀÇ ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ °ü·Ã ±â¾÷
      • ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ °ü·Ã ÆÕ(Fab)ÀÇ Áö¸®Àû ºÐÆ÷
      • ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå
      • Àç·á ¸ÅÃâ¾× ±âÁØ Á¡À¯À²
      • Àç·á ¿ëµµº° Á¡À¯À²
      • ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ÀÇ ¹ë·ùüÀÎ
    • Æú¸®¸Ó ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå
    • À¯¸® ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå
    • ½Ç¸®ÄÜ ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå
    • ±Ý¼Ó ¹× ¼¼¶ó¹ÍÁ¦ ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º ½ÃÀå
    • ¿ä¾à ¹× °á·Ð
    Á¦4Àå ºñ¿ë ºÐ¼®
    • ¼­·Ð ¹× Ĩ ¼³°è
    • ½Ã³ª¸®¿À 1 : À¯¸®Ä¨
    • ½Ã³ª¸®¿À 2 : ½Ç¸®ÄÜ£«À¯¸®Ä¨
    • ½Ã³ª¸®¿À 3 : »çÃ⼺ÇüµÈ Æú¸®¸ÓĨ
    • ½Ã³ª¸®¿À 4 : ³ª³ëÀÓÇÁ¸°Æ® ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ(NIL: Nanoimprint lithography) Æú¸®¸Ó Ĩ
    • ºñ¿ë ½Ã¹Ä·¹ÀÌ¼Ç ºÐ¼®
    Á¦5Àå ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽º Àç·á
    • Àç·á °³¿ä
    • À¯¸® ±âÆÇ
    • Æú¸®¸Ó Àç·á
    • ÁÖ¿ä Àç·á °ø±Þ¾÷ü
    • ¿ä¾à
    Á¦6Àå Á¦Á¶ ¹æ¹ý
    • ¼­·Ð ¹× ¸ñÀû
    • °øÁ¤ ±¸ºÐ
    • °øÁ¤ ºñ±³
    • °¢Á¾ Á¦Á¶ °øÁ¤ÀÇ ÀÀ¿ë
    • À缺Çü(Reshaping) °øÁ¤
    • Subtractive Process
    • Ãß°¡ °øÁ¤
    • ¹ÐºÀ ¹× Á¢ÇÕ
    • ÁÖ¿ä ¼³ºñ Á¦Á¶¾÷ü
    • ¿ä¾à ¹× °á·Ð
    Á¦7Àå Áø´Ü ¿ëµµ¸¦ À§ÇÑ ¸¶ÀÌÅ©·Î À¯Ã¼ µð¹ÙÀ̽ºÀÇ °ø±Þ¸Á
    • ü¿ÜÁø´Ü(IVD) °ø±Þ¸Á
    • IVD ±â¾÷ »óÀ§ 15»ç
    • Çù·Â °ü°èÀÇ »ç·Ê
    Á¦8Àå °á·Ð
    ºÎ·Ï
LSH
Back to Top