원자층 증착 : 연구개발 포트폴리오 평가와 성장 기회

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세계의 원자층 증착(Atomic Layer Deposition) 시장에 대해 조사했으며, 전략적 의무, 성장 환경, 성장 기회, 다음 스텝 등의 정보를 제공합니다.

목차

제1장 전략적 의무

• 원자층 증착 산업의 성장에 압력을 가하는 전략적 의무
• Strategic Imperative 8
• 원자층 증착 기술에 대한 상위 3개 전략적 의무의 영향
• Growth Pipeline Engine을 추진하는 성장 기회

제2장 성장 환경

• 조사 범위
• 조사 방법
• 조사 방법 설명

제3장 증착 기술

• 박막 증착 분류
• 원자층 증착 기술 개요
• 박막 대량 생산에 가장 선호되는 원자층 증착
• 기타 기술과 비교해 우수한 제어를 제공하는 원자층 증착
• 가장 비용 효율적 증착 기술의 하나인 플라즈마 강화 레이저 증착
• 재료의 우수한 증착 균일성을 가지는 열증착

제4장 리액터 종류

• 리액터 표면적과 체적을 늘리는 것에 의한 펄스와 퍼지 증대

제5장 원자층 증착 재료 종류

• 원자층 증착에서 가장 일반적으로 사용되는 재료인 산화물 유전체
• 반도체 산업용 박막 재료 개발을 위한 재료 조사에 대한 주목 상승
• 반응성이 높은 알킬 반응물에 대한 대항 반응물로서의 물 사용

제6장 원자층 증착에 의해 성장한 재료

• 원자층 증착 프로세스에서 가장 일반적으로 성장한 재료인 이산화티타늄
• 멀티 절연체 금속-절연체-금속 커패시터의 제조에 사용할 수 있는 원자층 증착
• 마이크로플루이딕스 시스템에 사용되는 산화 티타늄 기반 박막
• 광촉매에 사용되는 황화 아연으로 제작한 박막

제7장 기술의 장점, 단점 및 IP 분석

• 반응성 높은 기질이라는 이점을 가지는 원자층 증착
• 이용을 저해하는 에너지 낭비와 나노입자 배출
• 태양광 및 에너지 산업에 대한 막대한 영향
• 2D 금속 칼코게나이드막 증착에 관한 특허 증가

제8장 활발한 기업

• Oxford Instrument(영국)
• SENTECH Instruments(독일)
• Beneq(핀란드)
• Tokyo Electron Limited(일본)
• Veeco Instruments(미국)

제9장 성장 기회

• 성장 기회 1 : 반도체 산업
• 성장 기회 2 : 나노패브리케이션 산업
• 성장 기회 3 : 에너지 산업
• 성장 기회 4 : 바이오메디컬 산업
• 성장 기회 5 : 일렉트로닉스 산업

제10장 연락처

• 연락처

제11장 다음 스텝

• 다음 스텝
• 왜 Frost인가, 왜 지금인가?
• 면책사항

The Increase in Demand for Thin Films is Driving Adoption Across Industries

The demand for thin films has been immense because of the miniaturization trend. Developers of semiconductors and energy storage devices have been experimenting with atomic layer deposition technology for mass deployment, recognizing the shift from testing the product for specific application requirements to scaling the technology according to growing industry requirements.

Atomic layer deposition is a surface-controlled thin film deposition technique that allows manufacturers to fabricate thin films in various thicknesses in a controlled manner. The biomedical industry is a notable area of research and development, exploring the deposition of nanostructured materials that can be used for precise and patient-specific drug delivery, customized implants, and tissue engineering.

<>Research scope:

• The impact of the top 3 strategic imperatives on adoption of atomic layer deposition technology

• Overviews and comparisons of different chemical and physical deposition techniques

• Deep dive into atomic layer deposition technology

• Types of material used in atomic layer deposition

• List of materials grown using atomic layer deposition

• Growth drivers and restraints through 2027

• IP landscape analysis, including the number of patent filings since 2016

• Details about companies to action (Oxford Instrument, SENTECH Instruments, Beneq, Tokyo Electron Limited, and Veeco Instruments)

• Growth opportunities in the semiconductor, nanofabrication, energy, healthcare, and electronic industries

Table of Contents

1.0. Strategic Imperatives

• 1.1. Strategic Imperative 8™Factors Creating Pressure on Growth in the Atomic Layer Deposition Industry
• 1.2. Strategic Imperative 8™
• 1.3. Impact of the Top Three Strategic Imperatives on Adoption of Atomic Layer Deposition Technology
• 1.4. Growth Opportunities Fuel the Growth Pipeline Engine™

2.0. Growth Environment

• 2.1. Research Scope
• 2.2. Research Methodology
• 2.3. Research Methodology Explained

3.0. Deposition Techniques

• 3.1. Thin Film Deposition Categorization
• 3.2. Atomic Layer Deposition Technology Overview
• 3.3. Atomic Layer Deposition Is Mostly Preferred for High-volume Production of Thin Films
• 3.4. Atomic Layer Deposition Provides Superior Control When Compared With Other Techniques
• 3.5. Plasma-enhanced Laser Deposition Is One of the Most Cost-effective Deposition Techniques
• 3.6. Thermal Deposition Has Excellent Material Deposition Uniformity

4.0. Types of Reactors

• 4.1. Longer Pulse and Purge Can Be Achieved by Increasing the Reactor's Surface Area and Volume

5.0. Types of Material for Atomic Layer Deposition

• 5.1. Oxide Dielectric Is the Most Commonly Used Material for Atomic Layer Deposition
• 5.2. Increase in Focus on Material Research for Developing Thin-film Materials for the Semiconductor Industry
• 5.3. Alkyl Reactant Materials Use Water as Counter Reactants since They are Very Highly Reactive

6.0. Materials Grown by Atomic Layer Deposition

• 6.1. Titanium Dioxide Is the Most Commonly Grown Material in the Atomic Layer Deposition Process
• 6.2. Atomic Layer Deposition Can Be Used for Fabricating Multi-insulator Metal-Insulator-Metal Capacitors
• 6.3. Titanium Oxide-based Thin Films Are Used for Microfluidic Systems
• 6.4. Thin Films Fabricated with Zinc Sulfide Are Used for Photocatalysis

7.0. Technology Advantages, Disadvantages, and IP Analysis

• 7.1. Atomic Layer Deposition Is an Advantage With Sensitive Substrates
• 7.2. Energy Wastage and Nanoparticle Emissions Hinder Use
• 7.3. The Technology Has Been Witnessing Immense Impact in the Solar and Energy Industry
• 7.4. Patents With Respect to Deposition of 2D Metal Chalcogenide Films Are Witnessing an Increase

8.0. Companies to Action

• 8.1. Oxford Instrument, UK
• 8.2. SENTECH Instruments, Germany
• 8.3. Beneq, Finland
• 8.4. Tokyo Electron Limited, Japan
• 8.5. Veeco Instruments, United States

9.0. Growth Opportunities

• 9.1. Growth Opportunity 1: The Semiconductor Industry
• 9.1. Growth Opportunity 1: The Semiconductor Industry (continued)
• 9.2. Growth Opportunity 2: The Nanofabrication Industry
• 9.2. Growth Opportunity 2: The Nanofabrication Industry (continued)
• 9.3. Growth Opportunity 3: The Energy Industry
• 9.3. Growth Opportunity 3: The Energy Industry (continued)
• 9.4. Growth Opportunity 4: The Biomedical Industry
• 9.4. Growth Opportunity 4: The Biomedical Industry (continued)
• 9.5. Growth Opportunity 5: The Electronics Industry
• 9.5. Growth Opportunity 5: The Electronics Industry (continued)

10.0. Contacts

• 10.1. Contacts

11.0. Next Steps

• 11.1. Your Next Steps
• 11.2. Why Frost, Why Now?

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