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시장보고서
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세계의 첨단 리소그래피용 포토레지스트 화학제품 시장 : 기회, 성장 요인, 업계 동향 분석, 예측(2025-2034년)Photoresist Chemicals for Advanced Lithography Market Opportunity, Growth Drivers, Industry Trend Analysis, and Forecast 2025 - 2034 |
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세계의 첨단 리소그래피용 포토레지스트 화학제품 시장은 2024년 55억 달러로 평가되었으며, 2034년까지 연평균 복합 성장률(CAGR) 11%로 성장하여 156억 달러에 이를 것으로 예측됩니다.

이 시장의 성장은 아시아태평양의 투자 증가, 높은 NA EUV 시스템의 상용화, 3D 패키징 기술의 발전으로 추진되고 있습니다. 7nm 미만 및 5nm 미만의 프로세스 노드 채용, EUV 리소그래피의 보급 확대, AI, 5G, 자동차용 고성능 칩 수요 증가가 이 변화를 견인하고 있습니다. 13.5nm 파장의 극자외선(EUV) 리소그래피 기술로 5nm의 선폭 패터닝이 가능해져 화학 증폭형 레지스트(CAR) 및 금속 산화물계 EUV 포토레지스트 수요가 대폭 증가하고 있습니다. 높은 NA EUV로의 진화, DUV와 EUV를 결합한 하이브리드 노광 기술, 지향성 자기 조직화(DSA) 기술의 발전은 레지스트의 화학 조성을 재구성하고 있습니다. JSR, TOK, Dongjin Semichem, Fujifilm 등 업계 리더 기업은 2nm 및 1.4nm 노드 대응을 위한 제품 로드맵을 정비하고 있어, 기존 KrF/i-line 레지스트로부터 EUV 중심의 플랫폼으로의 명확한 이행을 나타내고 있습니다.
| 시장 범위 | |
|---|---|
| 시작 연도 | 2024년 |
| 예측 연도 | 2025-2034년 |
| 시작 금액 | 55억 달러 |
| 예측 금액 | 156억 달러 |
| CAGR | 11% |
포지티브 포토레지스트 부문은 2024년 34억 달러 시장 규모를 기록했으며, CAGR 10.7%로 확대되어 2034년까지 95억 달러에 이를 것으로 전망됩니다. 이 부문에서는 화학 증감형 레지스트가 주류이며, 10nm 이하의 미세 구조에 대해 높은 감도를 제공하여 정밀한 프로세스 제어를 가능하게 하고 있습니다. 이 부문의 혁신은 에칭 내성의 향상, 모듈형 포토레지스트의 개발, EUV 리소그래피에서의 2차 전자 블러의 저감에 초점을 맞추고, 모두 미세화에서의 수율 극대화에 필수적인 요소입니다.
반도체 디바이스 제조 부문은 첨단 로직, 메모리, 아날로그, AI용 칩에 사용되는 고순도 및 고성능 포토레지스트 수요에 의해 2024년에는 69.5%의 점유율을 차지했습니다. 멀티패터닝의 복잡화와 높은 NA EUV의 채용이 진행되고 있는 가운데, 5nm, 3nm, 그리고 곧 2nm 프로세스로 제조되는 CPU, GPU, SoC등의 로직 디바이스가 포토레지스트 재료의 최대 소비 부문이 되고 있습니다.
미국의 첨단 리소그래피용 포토레지스트 화학제품 시장은 2024년 8억 1,740만 달러였고, 2034년까지 연평균 복합 성장률(CAGR) 10.8%로 성장해 23억 달러에 이를 것으로 예측되고 있습니다. 북미의 성장은 국내 반도체 생산을 촉진하는 입법을 포함한 반도체 진흥 정책에 의해 견인되고 있습니다. 주요 제조업체에 의한 신규 제조 시설의 설립에 따라, 이러한 정책은 현지 조달된 포토레지스트 및 첨단 리소그래피 재료 수요를 촉진하고 있습니다.
첨단 리소그래피용 포토레지스트 화학제품 시장의 주요 기업으로는 Merck KGaA, Brewer Science, Inc., Dow, Fujifilm Holdings Corporation, Inpria Corporation, Dongjin Semichem Co., Ltd., Eternal Materials Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., JSR Corporation, Kayaku Advanced Materials, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Micro Resist Technology GmbH, Sumitomo Chemical Company, Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co., Ltd., Irresistible Materials Ltd 등을 들 수 있습니다. 주요 기업은 높은 NA EUV 및 5nm 이하의 공정 노드에 적합한 차세대 레지스트 화학물질을 개발하기 위해 연구 개발에 많은 투자를 하고 있습니다. 반도체 제조업체와의 전략적 제휴는 제품 혁신을 상업적 리소그래피 요구사항에 맞추는 데 도움이 됩니다. 기업은 지역 수요 증가에 대응하기 위해 아시아태평양 및 북미의 생산 능력을 확대하고 있습니다. 일부 기업은 하이브리드 리소그래피 솔루션과 지향성 자기 조직화 기술에 주력하여 제품 적용 범위를 확대하고 있습니다.
The Global Photoresist Chemicals for Advanced Lithography Market was valued at USD 5.5 Billion in 2024 and is estimated to grow at a CAGR of 11% to reach USD 15.6 Billion by 2034.

The market is being propelled by rising investments in the Asia-Pacific region, the commercialization of High-NA EUV systems, and advancements in 3D packaging technologies. The adoption of sub-7nm and sub-5nm process nodes, growing use of EUV lithography, and increasing demand for high-performance chips in AI, 5G, and automotive applications are driving this transformation. Extreme Ultraviolet (EUV) lithography at 13.5 nm wavelengths is enabling the patterning of 5nm line widths, significantly boosting demand for chemically amplified resists (CARs) and metal-oxide-based EUV photoresists. The evolution toward High-NA EUV, hybrid lithography combining DUV and EUV, and directed self-assembly (DSA) is reshaping resist chemistries. Industry leaders like JSR, TOK, Dongjin Semichem, and Fujifilm are aligning product roadmaps with 2nm and 1.4nm node readiness, marking a clear shift from traditional KrF/i-line resists to EUV-focused platforms.
| Market Scope | |
|---|---|
| Start Year | 2024 |
| Forecast Year | 2025-2034 |
| Start Value | $5.5 Billion |
| Forecast Value | $15.6 Billion |
| CAGR | 11% |
The positive photoresists segment generated USD 3.4 Billion in 2024 and is expected to reach USD 9.5 Billion by 2034, growing at a CAGR of 10.7%. Chemically amplified resists dominate this segment, offering high sensitivity for sub-10nm geometries and enabling precise process control. Innovations in this space focus on improving etch resistance, developing modular photoresist options, and minimizing secondary electron blur in EUV lithography, all critical to maximizing yields at small dimensions.
The semiconductor device fabrication segment held a 69.5% share in 2024 owing to its need for high-purity, high-performance photoresists used in advanced logic, memory, analog, and AI-focused chips. Increasing multi-patterning complexity and High-NA EUV adoption make logic devices, including CPUs, GPUs, and SoCs produced at 5nm, 3nm, and soon 2nm nodes, the largest consumers of photoresist materials.
U.S. Photoresist Chemicals for Advanced Lithography Market generated USD 817.4 million in 2024 and is expected to grow at a CAGR of 10.8% to reach USD 2.3 Billion by 2034. North America's growth is being fueled by semiconductor revitalization policies, including legislation encouraging domestic chip production. These policies are driving the demand for locally sourced photoresist and advanced lithography materials as new fabrication facilities are established by major manufacturers.
Key players in the Photoresist Chemicals for Advanced Lithography Market include Merck KGaA, Brewer Science, Inc., Dow, Fujifilm Holdings Corporation, Inpria Corporation, Dongjin Semichem Co., Ltd., Eternal Materials Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., JSR Corporation, Kayaku Advanced Materials, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Micro Resist Technology GmbH, Sumitomo Chemical Company, Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co., Ltd., and Irresistible Materials Ltd. Leading companies are investing heavily in R&D to develop next-generation resist chemistries suitable for High-NA EUV and sub-5nm process nodes. Strategic collaborations with semiconductor manufacturers help align product innovations with commercial lithography requirements. Firms are expanding production capacities in Asia-Pacific and North America to meet rising regional demand. Some players focus on hybrid lithography solutions and directed self-assembly technologies to broaden product applicability.