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반도체 산화로 시장 - 예측(2026-2031년)

Semiconductor Oxidation Furnaces Market - Forecast from 2026 to 2031

발행일: | 리서치사: Knowledge Sourcing Intelligence | 페이지 정보: 영문 132 Pages | 배송안내 : 1-2일 (영업일 기준)

    
    
    



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반도체 산화로 시장은 CAGR이 5.57%여, 2025년 11억 3,500만 달러에서 2031년에는 15억 7,100만 달러에 달할 것으로 예측됩니다.

반도체 산화로(수평 및 수직 열처리 시스템 포함)는 실리콘 및 화합물 반도체 소자 제조에서 게이트 산화물막, 전계 산화 및 패시베이션 층 형성을 위한 기본 장비로 남아 있습니다. 이 장비들은 로직, 메모리, 아날로그, 전력 장치에 필수적인 정밀하게 제어된 건식 및 습식 열 산화, 어닐링, 도펀트 도입 공정을 제공합니다. 전기자동차 파워트레인, 첨단운전자보조시스템(ADAS), 5G RF 부품, 산업자동화 플랫폼의 보급으로 수요가 점점 더 커지고 있으며, 이 모든 분야에서 고품질 유전체층과 패시베이션 층이 요구되고 있습니다.

주요 성장 요인

1. 민생 및 차량용 전자제품의 지속적인 확대: 스마트폰, 스마트TV, 웨어러블 기기, 커넥티드 가전제품의 세계 출하량 증가가 프론트엔드 실리콘 웨이퍼 생산량을 지속적으로 견인하고 있습니다. 동시에 자동차 분야에서 존 아키텍처 차량과 800V EV 플랫폼으로의 전환으로 차량 1대당 반도체 탑재량이 급격히 증가함에 따라 신뢰할 수 있는 고온 산화 공정에 대한 수요가 증가하고 있습니다.

2. 전기화 및 광대역 갭 디바이스의 보급: EV 인버터, 차량용 충전기, 재생에너지 시스템용 실리콘 카바이드(SiC) 및 질화갈륨(GaN) 파워 디바이스로의 구조적 전환으로 인해 기존의 실리콘 노로는 충분히 대응할 수 없는 특수 고온 산화(1300℃) 및 주입 후 어닐링 공정에 대한 새로운 요구가 발생했습니다. 1300℃ 이상) 및 주입 후 어닐링 공정에 대한 새로운 요구가 발생하고 있습니다.

주요 제약 요인

  • 인증된 공정 기술자 및 유지보수 기술자 부족 현대의 수직형 고온 용광로 운영에는 열 균일성, 오염 관리, 기체상 반응 속도론에 대한 깊은 전문 지식이 요구됩니다. 특히 신흥 제조 거점에서는 이러한 지속적인 인력 부족으로 인해 IDM과 파운드리 모두 운영 비용과 리스크가 증가하고 있습니다.

주요 장비 플랫폼

  • Centrotherm c.OXIDATOR : 1500℃까지 SiC 공정에 최적화된 고온 산화 시스템이며, 실리콘의 습식 및 건식 산화와 호환성을 유지하고 있습니다. 다양한 구성으로 최대 200mm의 웨이퍼 크기를 지원하며, 탄소발자국 감소와 운영 유연성을 중시합니다.
  • ASM International SONORA: 로직 및 메모리 용도를 위해 설계된 300mm 수직로 플랫폼으로 대기압 및 LPCVD 조건에서 처리할 수 있습니다. kW당 생산성, 낮은 입자 성능, 간소화된 유지보수성을 우선시하는 시스템입니다.

지역별 동향

아시아태평양은 최첨단 로직 파운드리, 메모리 및 파워 디바이스 제조업체들이 유례없이 집중되어 있으며, 설치 기반과 신규 시스템 도입에서 선도적인 위치를 유지하고 있습니다.

  • 중국은 세계 최대 전자 및 자동차용 반도체 소비 기반을 유지하면서 국내 전방 생산 능력을 적극적으로 확장하고 있습니다.
  • 대만, 한국, 일본은 최첨단 노드 및 화합물 반도체 생산 기지로서 차세대 산화 및 어닐링 장비에 대한 지속적인 수요를 확보하고 있습니다.
  • 인도에서는 국내 전자 및 자동차 부품 생태계가 빠르게 확장되고 있으며, 새로운 고성장 분야로 부상하고 있습니다.

북미와 유럽에서는 파워 디바이스, 아날로그, 특수 IC 생산과 더불어 자동차 등급 및 방산용 실리콘의 생산량 증가로 인해 보다 완만한 성장세를 보이고 있습니다. 미국내 200mm 및 300mm 제조의 부활과 CHIPS법 관련 투자가 결합되어 꾸준한 갱신 수요와 신규 수요를 지원하고 있습니다.

전반적으로 반도체 산화로 시장은 자동차용 반도체 탑재량의 구조적 증가, 진행 중인 SiC/GaN 양산 확대, 지속적인 민생 전자기기 수요량에 힘입어 견고한 성장 궤도를 유지하고 있습니다. 업계가 GAA 나노시트, 후면 공급, 와이드 밴드갭 집적화로 나아가는 가운데, 더 큰 웨이퍼에서 원자 수준의 균일성을 실현하고 더 높은 처리 온도에 대응할 수 있는 시스템이 특히 큰 가치를 얻게 될 것입니다.

이 보고서의 주요 장점:

  • 인사이트 분석 : 고객 부문, 정부 정책 및 사회경제적 요인, 소비자 선호도, 산업별, 기타 하위 부문에 초점을 맞추고 주요 지역뿐만 아니라 신흥 지역까지 포괄하는 상세한 시장 인사이트를 얻을 수 있습니다.
  • 경쟁 구도: 세계 주요 기업이 채택하고 있는 전략적 전략을 이해하고, 적절한 전략을 통한 시장 침투 가능성을 이해할 수 있습니다.
  • 시장 성장 촉진요인과 미래 동향 : 역동적인 요인과 매우 중요한 시장 동향, 그리고 이들이 향후 시장 발전을 어떻게 형성할 것인지에 대해 알아봅니다.
  • 실행 가능한 제안: 역동적인 환경 속에서 새로운 비즈니스 스트림과 매출을 발굴하기 위한 전략적 의사결정에 인사이트를 활용합니다.
  • 다양한 사용자에 대응: 스타트업, 연구기관, 컨설턴트, 중소기업, 대기업에 유익하고 비용 효율적입니다.

어떤 용도로 사용되는가?

산업 및 시장 인사이트, 사업 기회 평가, 제품 수요 예측, 시장 진출 전략, 지역적 확장, 설비 투자 결정, 규제 프레임워크와 영향, 신제품 개발, 경쟁의 영향

분석 범위

  • 과거 데이터(2021-2025년) 및 예측 데이터(2026-2031년)
  • 성장 기회, 과제, 공급망 전망, 규제 프레임워크, 고객 행동, 동향 분석
  • 경쟁사 포지셔닝, 전략 및 시장 점유율 분석
  • 매출 성장률 및 예측 분석 : 부문별/지역별(국가별)
  • 기업 프로파일(전략, 제품, 재무정보, 주요 동향 등)

목차

제1장 개요

제2장 시장 스냅숏

  • 시장 개요
  • 시장의 정의
  • 분석 범위
  • 시장 세분화

제3장 비즈니스 상황

  • 시장 성장 촉진요인
  • 시장 성장 억제요인
  • 시장 기회
  • Porter's Five Forces 분석
  • 업계의 밸류체인 분석
  • 정책과 규제
  • 전략적 제안

제4장 기술 전망

제5장 반도체 산화로 시장 : 노 유형별

  • 서론
  • 횡형
  • 종형

제6장 반도체 산화로 시장 : 프로세스별

  • 서론
  • 습식 산화
  • 건식 산화
  • 기타

제7장 반도체 산화로 시장 : 웨이퍼 사이즈별

  • 서론
  • 100mm 이하
  • 100-200mm
  • 200mm 초과

제8장 반도체 산화로 시장 : 용도별

  • 서론
  • 집적회로
  • 디스크리트 디바이스
  • 기타

제9장 반도체 산화로 시장 : 지역별

  • 서론
  • 아메리카
    • 미국
  • 유럽, 중동 및 아프리카
    • 독일
    • 영국
    • 네덜란드
    • 기타
  • 아시아태평양
    • 중국
    • 일본
    • 한국
    • 대만
    • 기타

제10장 경쟁 환경과 분석

  • 주요 기업과 전략 분석
  • 시장 점유율 분석
  • 기업인수합병(M&A), 합의, 사업 협력
  • 경쟁 대시보드

제11장 기업 개요

  • Centrotherm
  • Zhengzhou KJ Technology Co., Ltd.(KJ Group)
  • Tystar Corporation
  • Tempress
  • ASM International N.V
  • JTEKT Thermo Systems Corporation
  • Amtech System Inc.
  • SVCS Process Innovation
  • Tokyo Electron Limited
  • Kokusai Electric Corporation(Nisshinbo Holdings Inc)

제12장 부록

  • 통화
  • 전제조건
  • 기준연도와 예측연도 타임라인
  • 이해관계자에 대한 주요 이점
  • 분석 방법
  • 약어
KSA 26.02.23

Semiconductor Oxidation Furnaces Market, sustaining a 5.57% CAGR, is anticipated to reach USD 1.571 billion in 2031 from USD 1.135 billion in 2025.

Semiconductor oxidation furnaces - encompassing horizontal and vertical thermal processing systems - remain foundational equipment for gate oxide, field oxidation, and passivation layer formation in both silicon and compound-semiconductor device fabrication. These tools deliver precisely controlled dry and wet thermal oxidation, annealing, and dopant drive-in processes essential for logic, memory, analog, and power devices. Demand is increasingly shaped by the proliferation of electric-vehicle powertrains, advanced driver-assistance systems (ADAS), 5G RF components, and industrial automation platforms, all of which require high-quality dielectric and passivation layers.

Primary Growth Drivers

1. Sustained expansion of consumer and automotive electronics Rising global shipments of smartphones, smart TVs, wearables, and connected appliances continue to drive front-end silicon wafer starts. Simultaneously, the automotive sector's transition to zone-architecture vehicles and 800 V EV platforms dramatically increases semiconductor content per vehicle, amplifying demand for reliable high-temperature oxidation steps.

2. Electrification and wide-bandgap device ramp The structural shift toward silicon carbide (SiC) and gallium nitride (GaN) power devices for EV inverters, onboard chargers, and renewable-energy systems creates new requirements for specialized high-temperature oxidation (>1300 °C) and post-implant anneal processes that conventional silicon furnaces cannot adequately address.

Key Restraints

  • Shortage of qualified process and maintenance engineers Operating modern vertical and high-temperature furnaces demands deep expertise in thermal uniformity, contamination control, and gas-phase reaction kinetics. The persistent talent gap elevates operating cost and risk for both IDMs and foundries, particularly in emerging fabrication clusters.

Notable Equipment Platforms

  • Centrotherm c.OXIDATOR: A high-temperature oxidation system optimized for SiC processing up to 1500 °C while retaining compatibility with silicon wet and dry oxidation. Multiple configurations support wafer sizes up to 200 mm with emphasis on reduced carbon footprint and operational flexibility.
  • ASM International SONORA: A 300 mm vertical furnace platform designed for logic and memory applications under atmospheric and LPCVD conditions. The system prioritizes productivity per kilowatt, low particle performance, and simplified serviceability.

Regional Dynamics

Asia-Pacific continues to dominate installed base and new system placements, driven by the region's unmatched concentration of leading-edge logic foundries, memory manufacturers, and power-device fabricators.

  • China maintains the world's largest electronics and automotive semiconductor consumption base while aggressively expanding domestic front-end capacity.
  • Taiwan, South Korea, and Japan anchor the most advanced nodes and compound-semiconductor production, ensuring sustained pull for next-generation oxidation and anneal equipment.
  • India's accelerating domestic electronics and automotive component ecosystem is emerging as an additional high-growth pocket.

North America and Europe exhibit more moderate expansion, fueled primarily by power-device, analog, and specialty IC production alongside incremental capacity additions for automotive-grade and defense-qualified silicon. The U.S. resurgence in 200 mm and 300 mm fabrication, combined with CHIPS Act-related investments, supports steady replacement and greenfield demand.

Overall, the semiconductor oxidation furnace market remains on a solid growth trajectory, propelled by structural increases in automotive semiconductor content, the ongoing SiC/GaN ramp, and persistent consumer electronics volume. Systems capable of delivering atomic-scale uniformity across larger wafers and higher processing temperatures will capture disproportionate value as the industry pushes toward GAA nanosheets, backside power delivery, and wide-bandgap integration.

Key Benefits of this Report:

  • Insightful Analysis: Gain detailed market insights covering major as well as emerging geographical regions, focusing on customer segments, government policies and socio-economic factors, consumer preferences, industry verticals, and other sub-segments.
  • Competitive Landscape: Understand the strategic maneuvers employed by key players globally to understand possible market penetration with the correct strategy.
  • Market Drivers & Future Trends: Explore the dynamic factors and pivotal market trends and how they will shape future market developments.
  • Actionable Recommendations: Utilize the insights to exercise strategic decisions to uncover new business streams and revenues in a dynamic environment.
  • Caters to a Wide Audience: Beneficial and cost-effective for startups, research institutions, consultants, SMEs, and large enterprises.

What do businesses use our reports for?

Industry and Market Insights, Opportunity Assessment, Product Demand Forecasting, Market Entry Strategy, Geographical Expansion, Capital Investment Decisions, Regulatory Framework & Implications, New Product Development, Competitive Intelligence

Report Coverage:

  • Historical data from 2021 to 2025 & forecast data from 2026 to 2031
  • Growth Opportunities, Challenges, Supply Chain Outlook, Regulatory Framework, and Trend Analysis
  • Competitive Positioning, Strategies, and Market Share Analysis
  • Revenue Growth and Forecast Assessment of segments and regions including countries
  • Company Profiling (Strategies, Products, Financial Information), and Key Developments among others.

Semiconductor Oxidation Furnace Market Segmentation:

  • By Furnace Type
  • Horizontal
  • Vertical
  • By Process
  • Wet Oxidation
  • Dry Oxidation
  • Others
  • By Wafer Size
  • Up to 100 mm
  • 100 to 200 mm
  • Greater than 200 mm
  • By Application
  • Integrated Circuits
  • Discrete Devices
  • Others
  • By Geography
  • Americas
  • USA
  • Europe Middle East and Africa
  • Germany
  • United Kingdom
  • Netherlands
  • Others
  • Asia Pacific
  • China
  • Japan
  • South Korea
  • Taiwan
  • Others

TABLE OF CONTENTS

1. EXECUTIVE SUMMARY

2. MARKET SNAPSHOT

  • 2.1. Market Overview
  • 2.2. Market Definition
  • 2.3. Scope of the Study
  • 2.4. Market Segmentation

3. BUSINESS LANDSCAPE

  • 3.1. Market Drivers
  • 3.2. Market Restraints
  • 3.3. Market Opportunities
  • 3.4. Porter's Five Forces Analysis
  • 3.5. Industry Value Chain Analysis
  • 3.6. Policies and Regulations
  • 3.7. Strategic Recommendations

4. TECHNOLOGICAL OUTLOOK

5. SEMICONDUCTOR OXIDATION FURNACE MARKET BY FURNACE TYPE

  • 5.1. Introduction
  • 5.2. Horizontal
  • 5.3. Vertical

6. SEMICONDUCTOR OXIDATION FURNACE MARKET BY PROCESS

  • 6.1. Introduction
  • 6.2. Wet Oxidation
  • 6.3. Dry Oxidation
  • 6.4. Others

7. SEMICONDUCTOR OXIDATION FURNACE MARKET BY WAFER SIZE

  • 7.1. Introduction
  • 7.2. Up to 100 mm
  • 7.3. 100 to 200 mm
  • 7.4. Greater than 200 mm

8. SEMICONDUCTOR OXIDATION FURNACE MARKET BY APPLICATION

  • 8.1. Introduction
  • 8.2. Integrated Circuits
  • 8.3. Discrete Devices
  • 8.4. Others

9. SEMICONDUCTOR OXIDATION FURNACE MARKET BY GEOGRAPHY

  • 9.1. Introduction
  • 9.2. Americas
    • 9.2.1. USA
  • 9.3. Europe Middle East and Africa
    • 9.3.1. Germany
    • 9.3.2. United Kingdom
    • 9.3.3. Netherlands
    • 9.3.4. Others
  • 9.4. Asia Pacific
    • 9.4.1. China
    • 9.4.2. Japan
    • 9.4.3. South Korea
    • 9.4.4. Taiwan
    • 9.4.5. Others

10. COMPETITIVE ENVIRONMENT AND ANALYSIS

  • 10.1. Major Players and Strategy Analysis
  • 10.2. Market Share Analysis
  • 10.3. Mergers, Acquisitions, Agreements, and Collaborations
  • 10.4. Competitive Dashboard

11. COMPANY PROFILES

  • 11.1. Centrotherm
  • 11.2. Zhengzhou KJ Technology Co., Ltd. (KJ Group)
  • 11.3. Tystar Corporation
  • 11.4. Tempress
  • 11.5. ASM International N.V
  • 11.6. JTEKT Thermo Systems Corporation
  • 11.7. Amtech System Inc.
  • 11.8. SVCS Process Innovation
  • 11.9. Tokyo Electron Limited
  • 11.10. Kokusai Electric Corporation (Nisshinbo Holdings Inc)

12. APPENDIX

  • 12.1. Currency
  • 12.2. Assumptions
  • 12.3. Base and Forecast Years Timeline
  • 12.4. Key Benefits for the Stakeholders
  • 12.5. Research Methodology
  • 12.6. Abbreviations
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