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시장보고서
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세계의 포토마스크 시장 예측(-2032년) : 제품 유형, 마스크 유형, 기술 노드, 용도, 최종 사용자, 지역별 분석Photomask Market Forecasts to 2032 - Global Analysis By Product Type (Reticle, Master Mask, Copy Mask, and Other Product Types), Mask Type, Technology Node, Application, End Users and By Geography |
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Stratistics MRC에 따르면 포토마스크 세계의 시장은 2025년에 58억 1,000만 달러, 2032년에는 91억 6,000만 달러에 이를것으로 예측되며, 예측 기간 중 CAGR은 6.7%를 나타낼 전망입니다.
포토마스크는 마이크로 제조, 특히 반도체 제조를 위한 포토리소그래피에 사용되는 중요한 도구입니다. 빛을 선택적으로 차단하도록 패턴화된 불투명 물질로 코팅된 유리 또는 석영판으로 구성됩니다. 포토마스크는 자외선(UV)에 노출되면 패턴을 실리콘 웨이퍼의 감광층에 전사합니다. 이 공정을 통해 집적 회로 및 기타 마이크로 디바이스 제작에 필수적인 복잡한 회로 설계를 정밀하게 에칭할 수 있습니다.
미국 상무부의 보고서에 따르면 미국의 반도체 판매액은 2021년 29% 증가했습니다.
반도체 연구개발 투자 증가
반도체 기술에 대한 연구 개발이 증가하면서 포토마스크 설계의 혁신이 촉진되어 효율성과 내구성이 향상되고 있습니다. 첨단 포토마스크는 반도체 제조의 핵심 요소인 정밀한 회로 패터닝을 가능하게 합니다. 극자외선(EUV) 리소그래피의 채택이 증가함에 따라 차세대 포토마스크에 대한 투자가 더욱 활발해지고 있습니다. 선도적인 반도체 제조업체들은 포토마스크 기능을 향상하고 생산 비용을 절감하기 위해 R&D 예산을 확대하고 있습니다. 또한 연구 기관과 업계 플레이어 간의 협업으로 포토마스크의 발전이 가속화되고 있습니다.
높은 제조 비용
포토마스크 개발에는 정교한 기술과 고도로 전문화된 장비가 필요하며, 이는 상당한 자본 투자로 이어집니다. 집적 회로의 복잡성이 증가함에 따라 엄격한 사양을 갖춘 고급 포토마스크가 필요해지면서 비용이 더욱 상승하고 있습니다. 또한 생산 공정에는 값비싼 원자재와 복잡한 제조 기술이 필요하기 때문에 경제성을 확보하는 것도 어려운 과제입니다. 높은 운영 비용은 소규모 제조업체의 시장 진입을 방해하여 산업 확장을 제한할 수 있습니다.
리소그래피 기술의 발전
리소그래피 기술의 발전은 포토마스크 산업에 혁명을 일으키며 반도체 제조의 정밀도와 효율성을 높이고 있습니다. EUV 리소그래피로의 전환은 포토마스크의 해상도와 정확성을 크게 향상시켜 칩 성능을 개선하고 있습니다. 광학 근접 보정(OPC) 및 역리소그래피 기술(ILT)과 같은 혁신으로 설계 프로세스가 개선되고 있습니다. 또한 컴퓨터 리소그래피의 통합으로 포토마스크 개발이 간소화되어 반도체 제품의 시장 출시가 가속화되고 있습니다.
제한된 숙련 노동력
포토마스크 산업에는 반도체 리소그래피 및 광학 공학에 대한 전문 지식을 갖춘 고도로 숙련된 전문가가 필요합니다. 그러나 고급 포토마스크 개발을 처리할 수 있는 자격을 갖춘 엔지니어와 기술자가 부족합니다. 리소그래피 기술의 복잡성과 진화하는 산업 표준으로 인해 지속적인 기술 개발이 필수적입니다. 기업은 전문 인재를 채용하고 유지하는 데 어려움을 겪으며 생산 효율성과 혁신에 영향을 미칩니다. 인력 제한으로 인해 차세대 포토마스크 기술 도입이 늦어져 시장 성장에 영향을 미칠 수 있습니다.
COVID-19의 영향
COVID-19 팬데믹으로 인해 전 세계 반도체 공급망이 중단되면서 포토마스크 생산과 유통에 영향을 미쳤습니다. 봉쇄와 제한 조치로 인해 제조 시설이 일시적으로 폐쇄되어 반도체 제조가 지연되었습니다. 그러나 팬데믹 이후 회복세로 반도체 수요가 급증하면서 포토마스크 개발에 대한 투자가 증가했습니다. 원격 근무와 전자 기기 사용이 증가하면서 반도체 생산량이 더욱 증가하여 포토마스크 시장에도 도움이 되었습니다.
레티클 부문은 예측 기간 동안 가장 큰 규모가 될 전망
레티클 부문은 반도체 디바이스의 지속적인 확장으로 인해 고급 노드에 고정밀 패터닝이 필요하기 때문에 예측 기간 동안 가장 큰 시장 점유율을 차지할 것으로 예상됩니다. EUV 리소그래피와 3D IC 포장의 채택은 복잡한 레티클 설계의 필요성을 더욱 촉진하고 있습니다. 또한 AI, 5G 및 자동차 전자 장치에 대한 투자 증가로 첨단 칩 생산이 가속화되면서 포토마스크 제조 공정에서 고품질 레티클에 대한 수요가 증가하고 있습니다.
전자 부문은 예측 기간 동안 가장 높은 CAGR을 보일 전망
예측 기간 동안 전자 부문은 스마트 폰, 노트북 및 IoT 기기와 같은 소형화 및 고성능 장치에 대한 수요 증가로 인해 가장 높은 성장률을 보일 것으로 예상됩니다. 더 빠르고, 더 작고, 더 에너지 효율적인 전자기기에 대한 소비자의 기대가 높아지면서 반도체 제조업체는 정밀한 칩 제작을 위한 고급 포토마스크를 필요로 합니다. 또한 디스플레이 기술, 웨어러블, 스마트 홈 기기의 급속한 혁신으로 인해 전자 제품 생산에 고해상도 포토마스크 솔루션에 대한 수요가 계속 증가하고 있습니다.
예측 기간 동안 아시아태평양 지역은 반도체 제조 분야에서 우위를 점하고 있기 때문에 가장 큰 시장 점유율을 차지할 것으로 예상됩니다. 대만, 한국, 중국, 일본과 같은 국가에는 TSMC, 삼성, SK하이닉스를 비롯한 주요 반도체 팹이 있어 첨단 포토마스크에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 또한 정부의 이니셔티브와 반도체 인프라에 대한 투자 증가는 이 지역의 시장 성장을 더욱 강화합니다.
예측 기간 동안 북미 지역은 반도체 연구 개발, 특히 극자외선(EUV) 리소그래피와 같은 첨단 기술 분야에서 이 지역의 리더십으로 인해 더 작은 공정 노드와 복잡한 칩 설계를 위한 고정밀 포토마스크가 필요하기 때문에 가장 높은 CAGR을 기록할 것으로 예상됩니다. 또한 소비자 가전, 전기자동차 및 AI 기반 애플리케이션에 대한 수요가 증가함에 따라 이러한 정교한 장치의 요구 사항을 충족하기 위한 고급 포토마스크의 필요성이 더욱 커지고 있습니다.
According to Stratistics MRC, the Global Photomask Market is accounted for $5.81 billion in 2025 and is expected to reach $9.16 billion by 2032 growing at a CAGR of 6.7% during the forecast period. A photomask is a crucial tool used in photolithography for micro-fabrication, particularly in semiconductor manufacturing. It consists of a glass or quartz plate coated with an opaque material patterned to block light selectively. When exposed to ultraviolet (UV) light, the photomask transfers its pattern onto a photosensitive layer on a silicon wafer. This process enables the precise etching of intricate circuit designs essential for creating integrated circuits and other micro-devices.
According to a report by the U.S. According to the Department of Commerce, the sale of semiconductors in the United States grew 29% in 2021.
Rising investment in semiconductor R&D
Increasing research and development in semiconductor technology is fuelling innovations in photomask designs, improving their efficiency and durability. Advanced photomasks enable precise circuit patterning, a crucial aspect of semiconductor fabrication. The growing adoption of extreme ultraviolet (EUV) lithography is further driving investment in next-generation photomasks. Leading semiconductor manufacturers are expanding their R&D budgets to enhance photomask capabilities and reduce production costs. Additionally, collaborations between research institutions and industry players are accelerating photomask advancements.
High production costs
The development of photomasks requires sophisticated technologies and highly specialized equipment, leading to significant capital investment. The increasing complexity of integrated circuits demands advanced photomasks with stringent specifications, further driving up costs. Additionally, the production process involves expensive raw materials and intricate manufacturing techniques, making affordability a challenge. High operational costs can deter smaller manufacturers from entering the market, limiting industry expansion.
Technological advancements in lithography
Advancements in lithography technologies are revolutionizing the photomask industry, enabling higher precision and efficiency in semiconductor manufacturing. The transition to EUV lithography is significantly enhancing the resolution and accuracy of photomasks, improving chip performance. Innovations such as optical proximity correction (OPC) and inverse lithography technology (ILT) are refining the design process. Additionally, the integration of computational lithography is streamlining photomask development, accelerating time-to-market for semiconductor products.
Limited skilled workforce
The photomask industry requires highly skilled professionals with expertise in semiconductor lithography and optical engineering. However, there is a shortage of qualified engineers and technicians capable of handling advanced photomask development. The complexity of lithographic technologies and evolving industry standards make continuous skill development essential. Companies face challenges in recruiting and retaining specialized talent, impacting production efficiency and innovation. Workforce limitations may slow down the adoption of next-generation photomask technologies, affecting market growth.
Covid-19 Impact
The COVID-19 pandemic disrupted global semiconductor supply chains, affecting photomask production and distribution. Lockdowns and restrictions led to temporary shutdowns of manufacturing facilities, causing delays in semiconductor fabrication. However, the post-pandemic recovery witnessed a surge in semiconductor demand, driving investments in photomask development. The rise in remote work and electronic device usage further boosted semiconductor production, benefiting the photomask market.
The reticle segment is expected to be the largest during the forecast period
The reticle segment is expected to account for the largest market share during the forecast period, due to the continuous scaling of semiconductor devices, requiring high-precision patterning for advanced nodes. The adoption of EUV lithography and 3D IC packaging further fuels the need for complex reticle designs. Additionally, increased investment in AI, 5G, and automotive electronics accelerates the production of advanced chips, thereby boosting the demand for high-quality reticles in photomask fabrication processes
The electronics segment is expected to have the highest CAGR during the forecast period
Over the forecast period, the electronics segment is predicted to witness the highest growth rate, due to the rising demand for miniaturized and high-performance devices like smartphones, laptops, and IoT gadgets. As consumer expectations push for faster, smaller, and more energy-efficient electronics, semiconductor manufacturers require advanced photomasks for precise chip fabrication. Additionally, rapid innovation in display technologies, wearables, and smart home devices continues to fuel the need for high-resolution photomask solutions in electronics production.
During the forecast period, the Asia Pacific region is expected to hold the largest market share due to its dominance in semiconductor manufacturing. Countries like Taiwan, South Korea, China, and Japan host major semiconductor fabs, including TSMC, Samsung, and SK Hynix, fueling demand for advanced photomasks. Additionally, government initiatives and increased investments in semiconductor infrastructure further bolster the region's market growth.
Over the forecast period, the North America region is anticipated to exhibit the highest CAGR, owing to the region's leadership in semiconductor research and development, particularly in advanced technologies like Extreme Ultraviolet (EUV) lithography, necessitates high-precision photomasks for smaller process nodes and intricate chip designs. Additionally, the increasing demand for consumer electronics, electric vehicles, and AI-driven applications further propels the need for advanced photomasks to meet the requirements of these sophisticated devices.
Key players in the market
Some of the key players profiled in the Photomask Market include Advance Reproductions Corporation, Applied Materials Inc., Compugraphics International Limited, Dai Nippon Printing Co., Ltd., HOYA Corporation, Infinite Graphics Incorporated, KLA Corporation, Lasertec Corporation, LG Innotek Co., Ltd., Mycronic AB, Nippon Filcon Co., Ltd., Photronics, Inc., Qingyi Photomask Limited, SK-Electronics Co., Ltd., and Taiwan Mask Corporation (TMC).
In April 2025, Applied Materials, Inc. announced it has purchased 9 percent of the outstanding shares of the common stock of BE Semiconductor Industries N.V. (Besi), a leading manufacturer of assembly equipment for the semiconductor industry. Applied and Besi have been successfully collaborating since 2020, and recently extended their agreement, to co-develop the industry's first fully integrated equipment solution for die-based hybrid bonding.
In June 2016, Advance Reproductions Corp. is pleased to announce the installation of its Next-Generation Laser Writer for Photomask manufacturing. The Mycronic FPS5500 is the latest technology offering from Mycronic AB, Taby, Sweden. Installation was completed in July 2016 and is currently in production for photomask manufacturing.