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Intel의 ´No SeWaRe´ 유리 기판 : TGV의 과제와 첨단 패키징에서 공급망의 역할

Intel´s No SeWaRe Glass Substrates: TGV Challenges and Advanced Packaging Supply Chain Role

발행일: | 리서치사: 구분자 TrendForce | 페이지 정보: 영문 25 Pages | 배송안내 : 1-2일 (영업일 기준)

    
    
    



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Google, Meta, MediaTek이 Intel의 EMIB 패키징 기술 채택을 검토하면서 Intel의 첨단 패키징 및 유리 기판 기술 발전이 다시 한 번 업계에서 큰 주목을 받고 있습니다. 특히, Intel은 2026년 1월 22일 개최된 'NEPCON Japan'에서 자사의 EMIB 패키징과 유리 기판을 결합한 첫 번째 샘플을 선보였습니다. 이 샘플은 기존의 2배의 레티클 사이즈에 대응하고, 범프 피치를 45µm까지 축소한 것으로, 테스트에서 'No SeWaRe(미세 균열 없음)'을 달성했다고 주장하고 있어, 유리 기판의 양산화에 한 걸음 더 다가섰음을 시사하고 있습니다. 한편, Intel 외에도 TSMC, Samsung(SEMCO), Rapidus, SK Absolics가 2027년부터 2028년까지 유리 기판 양산을 차례로 달성할 것으로 예상됩니다.

본 보고서에서는 주로 다음과 같은 항목에 대해 상세히 분석하였습니다. (1) 대형 칩 패키징 동향, (2) 유리 기판의 장점, (3) 주요 파운드리/OSAT의 유리 기판 기술 로드맵, (4) 유리 기판 대량 생산의 과제, (5) 유리 기판 솔루션과 해당 공급업체, (6) 유리 기판 공급망 개요 및 대만 제조업체를 위한 비즈니스 기회. 이 보고서는 유리 기판의 현재 수요, 기술적 병목 현상, 공급업체의 실적, 대만 기업의 잠재적 공급망 기회 등을 분석합니다.

주요 하이라이트

  • Intel의 진전 : 대형 칩을 위한 EMIB와 유리 기판을 완벽하게 융합하여 대량 생산이 임박했습니다.
  • 업계 경쟁 : 주요 하이테크 브랜드가 이를 채택하고, 경쟁 파운드리 업체들도 이를 빠르게 도입하고 있습니다.
  • 보고서의 초점 : 패키징 트렌드, 기술 과제 및 대만 공급망 전망을 평가합니다.

목차

제1장 대형 칩 패키징 동향

제2장 유리 기판의 장점

제3장 주요 파운드리/OSAT의 유리 기판 기술 로드맵

제4장 유리 기판 대량 생산의 과제

제5장 유리 기판 솔루션 및 관련 공급업체

제6장 유리 기판 공급망 개요와 대만 기업의 기회

제7장 TRI의 견해

KSM 26.06.05

With Google, Meta, and MediaTek all considering adopting Intel’s EMIB packaging technology, Intel’s technological progress in advanced packaging and glass substrates has once again attracted significant attention in the industry. In particular, Intel showcased the first sample at NEPCON Japan on January 22nd 2026 that combines Intel’s EMIB packaging with a glass substrate, capable of supporting a chip twice the reticle size, with bump pitch shrunk to 45µm, and claimed to have achieved No SeWaRe (no micro‑cracks) during testing, implying that glass substrates are one step closer to mass production. On the other hand, besides Intel, TSMC, Samsung (SEMCO), Rapidus, and SK Absolics are also expected to achieve mass production of glass substrates successively between 2027 and 2028.

This report mainly provides in‑depth analysis of: (1) trends in large‑size chip packaging; (2) the advantages of glass substrates; (3) the glass substrate technology roadmaps of major foundries/OSATs; (4) challenges in mass production of glass substrates; (5) glass substrate solutions and corresponding suppliers; and (6) an overview of the glass substrate supply chain and opportunities for Taiwanese manufacturers. This report analyzes current demand drivers for glass substrates, technological bottlenecks, supplier performance, and potential supply‑chain opportunities for Taiwanese companies.

Key Highlights

  • Intel's Advance: Flawlessly fused EMIB and glass substrates for large chips, nearing mass production.
  • Industry Race: Major tech brands adopt this, prompting rival foundries to accelerate rollouts.
  • Report Focus: Assesses packaging trends, technical hurdles, and supply chain prospects for Taiwan.

Table of Contents

1. Trends in Large-Size Chip Packaging

  • Figure 1: TSMC’s CoWoS Reticle Size Roadmap
  • Table 1: Deployment in Large-Sized Packaging for FOPLP among Foundries/OSATs
  • Figure 2: Comparison of Area Utilization between Round and Square Wafers
  • Figure 3: Schematics of Warpage among Large-Sized Packaging

2. Advantages of Glass Substrates

  • Table 2: Comparison of Performance between Organic Core Substrates and Glass Core Substrates
  • Figure 4: Schematics of Organic Core Substrates and Glass Core Substrates

3. Glass Substrate Technology Roadmap of Major Foundries/OSATs

  • Table 3: Deployment of 2.5D Packaging Product Lines among Major Foundries/OSATs
  • Figure 5: Schematics of Intel’s “10-2-10” Glass Core Substrates

4. Challenges in Mass Production of Glass Substrates

  • Figure 6: Schemaatics of SeWaRe Caused by TGV
  • Figure 7: Schematics of SeWaRe Caused by Dicing
  • Figure 8: Process Flow of Glass Substrates
  • Figure 9: Schematics of Edge Coating

5. Glass Substrate Solutions and Corresponding Suppliers

  • Figure 10: LPKF LIDE Process Flow
  • Figure 11: Glass Substrate after TGV
  • Figure 12: LPKF LIDE S5000 Gen2
  • Table 4: Comparison of TGV Equipment Specifications by Manufacturer
  • Figure 13: Three Glass Substrate Dicing Technologies Presented by DISCO
  • Table 5: Comparison of Glass Substrate Cutting Technologies
  • Figure 14: Results from Two-Sided Dielectric Layer Pull-Back
  • Figure 15: Images of Through-Hole Defects Associated with TGV
  • Figure 16: Onto Firely F3
  • Figure 17: KLA Lumina

6. Overview of Glass Substrate Supply Chain and Opportunities for Taiwan-Based Companies

  • Table 6: Glass Substrate Supply Chain

7. TRI’s View

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