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시장보고서
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리소그래피 장비 시장 규모, 점유율, 성장 및 세계 산업 분석 : 유형별, 용도별, 지역별 인사이트 및 예측(2024-2032년)Lithography Equipment Market Size, Share, Growth and Global Industry Analysis By Type & Application, Regional Insights and Forecast, 2024-2032 |
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반도체 제조업체가 미세화, 선진 패키징, 고성능 집적 회로의 개발을 추진하는 가운데, 세계의 리소그래피 장비 시장은 급속한 확대를 계속하고 있습니다. 업계 추정에 따르면 시장 규모는 2024년에 276억 6,000만 달러에 이르렀고, 2025년에는 297억 6,000만 달러로 성장하며, 2032년까지 551억 3,000만 달러로 급증할 것으로 예상됩니다. 예측 기간 중 안정된 CAGR(9.2%)을 나타낼 전망입니다. 2024년에는 유럽이 42.55%의 점유율로 세계 시장을 선도했으며, 이는 주로 ASML의 존재와 첨단 리소그래피 기술에 특화된 강력한 R&D 생태계에 지지되었습니다.
리소그래피 장비는 포토마스크 상의 회로 패턴을 실리콘 웨이퍼에 전사하는 반도체 제조에 있어서 매우 중요한 역할을 담당하고 있습니다. 이 프로세스는 마이크로프로세서, 메모리 칩, 파워 디바이스, MEMS, LED 및 첨단 패키징 구조의 제조에 필수적입니다. 반도체 제조업체가 트랜지스터의 고밀도화와 고성능화를 추구하는 가운데, 극단 자외선(EUV), 선진 심자외선(DUV), 멀티패터닝 리소그래피 시스템 수요가 급격히 높아지고 있습니다.
리소그래피 기술 혁신에 대한 생성형 AI의 영향
생성형 AI는 마스크 설계, 노광 최적화, 렌즈 시뮬레이션, 시스템 전체의 효율성 향상을 통해 리소그래피 에코시스템을 크게 변화시키고 있습니다. AI 알고리즘은 수백만의 설계 패턴을 평가하여 왜곡 감소, 오버레이 정밀도 향상, 개발 사이클 단축을 실현합니다. EUV 리소그래피에서는 생성형 AI가 마스크 구조와 노광 파라미터를 최적화하고 시행착오에 의한 엔지니어링을 삭감함과 동시에 수율을 향상시키고 있습니다. 이러한 개선은 하이 엔드 리소그래피 장비의 가치 제안을 강화하고 첨단 반도체 팹 전체에서 신속한 도입을 지원합니다.
시장 동향
2024년부터 2025년까지 가장 눈에 띄는 동향 중 하나는 첨단 리소그래피 기술에 대한 수요 증가입니다. 특히 모바일 프로세서, AI 가속기, 자동차용 IC, 엣지 컴퓨팅 디바이스에 채용되는 최첨단 프로세스 노드에 대한 수요가 높아지고 있습니다. 미세화와 고집적화에 대한 요구는 EUV 시스템과 멀티패터닝 DUV 시스템으로의 전환을 추진하고 있습니다.
예를 들어, 2023년 12월에는 니콘 주식회사가 고도의 왜곡 보정 기능과 고스루풋 성능을 갖춘 ArF 액침 노광 장비 「NSR-S636E」를 발표했습니다. 이러한 혁신은 보다 정교한 IC 설계로의 전환을 가속화하고 리소그래피 장비 수요를 강화하고 있습니다.
성장 요인
모바일 디바이스, 전기자동차, 데이터센터, 통신, 자동화 기술 등에 있어서 반도체 집적 회로 수요 증가가 시장 성장의 가장 강력한 추진력이 계속되고 있습니다. 신세대 칩마다 보다 복잡한 리소그래피 공정이 크게 필요하기 때문에 팹은 EUV 기술과 고정밀 DUV 기술 모두에 대한 투자를 강요하고 있습니다.
3D IC, 2.5D 인터포저, 팬아웃 웨이퍼 레벨 패키징(FO WLP)을 포함한 첨단 패키징 기술의 시작은 이기종 통합을 지원할 수 있는 보다 복잡한 리소그래피 장비를 필요로 합니다. 칩렛 기반 아키텍처로의 전환이 가속화됨에 따라 첨단 패키징을 지원하는 리소그래피 시스템에 대한 수요는 점점 더 커질 전망입니다.
성장 억제요인
견조한 성장 전망에도 불구하고 차세대 리소그래피 시스템의 첨단 복잡성과 비용으로 인한 과제가 시장에 존재합니다. EUV 장비는 고급 광학 시스템, 강력한 광원, 고급 재료 및 고정밀 제어 시스템을 요구합니다. 마스크 결함, 광원 출력 제한, 공정 안정성과 관련된 기술적 장벽은 추가적인 과제를 초래합니다. 이러한 요인은 개발주기의 장기화와 엄청난 설비투자를 필요로 하며, 세계 최대급 파운드리만이 접근가능한 상황을 창출하고 있습니다.
2024년 기준에서 DUV 리소그래피는 성숙도, 저비용, 광범위한 제조 공정에 대한 적응성으로 주류를 차지했습니다. 그러나 고성능 용도를 위해 미세화가 진행됨에 따라 EUV 리소그래피가 가장 높은 CAGR을 나타낼 것으로 예측됩니다.
기술별로는 ArF 액침 노광이 45nm 이하의 미세구조를 고스루풋으로 형성할 수 있기 때문에 최대의 점유율을 차지했습니다. 한편, 마스크 얼라이너는 MEMS, 광전자 디바이스, 소규모 제조 분야에서 수요 증가에 의해 가장 급속한 성장이 예상됩니다.
응용 분야별로 고급 패키징이 가장 큰 점유율을 차지했지만 LED 부문은 LED 광원의 긴 수명과 효율성으로 인해 가장 급속한 확대가 예상됩니다.
유럽은 2024년에 117억 7,000만 달러 시장 규모를 유지해 ASML사의 EUV 기술에 있어서 우위성과 강력한 R&D 파트너십을 통해 세계의 도입을 선도했습니다. 북미는 반도체 제조 능력에 대한 투자와 공급망 강화를 배경으로 꾸준한 성장을 보이고 있습니다. 아시아태평양은 TSMC, 삼성, SMIC 등 주요 파운드리가 차세대 칩을 위한 고급 리소그래피 시스템을 필요로 하기 때문에 가장 높은 CAGR을 나타낼 것으로 예측됩니다.
The global lithography equipment market continues to expand rapidly as semiconductor manufacturers push toward smaller nodes, advanced packaging, and higher-performance integrated circuits. According to industry estimates, the market size reached USD 27.66 billion in 2024, is projected to grow to USD 29.76 billion in 2025, and is expected to surge to USD 55.13 billion by 2032, reflecting a steady CAGR of 9.2% over the forecast period. Europe led the global market with a 42.55% share in 2024, driven largely by the presence of ASML and strong research and development ecosystems dedicated to advanced lithography technologies.
Lithography equipment plays a crucial role in semiconductor manufacturing by transferring circuit patterns from photomasks onto silicon wafers. This process is essential for producing microprocessors, memory chips, power devices, MEMS, LEDs, and advanced packaging architectures. As chipmakers pursue higher transistor density and superior performance, the need for extreme ultraviolet (EUV), advanced deep ultraviolet (DUV), and multi-patterning lithography systems is increasing sharply.
Generative AI Influence on Lithography Innovation
Generative AI is significantly shaping the lithography ecosystem by improving mask design, exposure optimization, lens simulation, and overall system efficiency. AI algorithms evaluate millions of design permutations to reduce distortions, enhance overlay accuracy, and shorten development cycles. For EUV lithography, generative AI optimizes mask structures and exposure parameters, reducing trial-and-error engineering and improving yield rates. These improvements strengthen the value proposition of high-end lithography equipment and support faster adoption across advanced semiconductor fabs.
Market Trends
One of the strongest trends in 2024-2025 is the growing demand for advanced lithography technologies, especially for cutting-edge nodes used in mobile processors, AI accelerators, automotive ICs, and edge computing devices. The need for smaller feature sizes and higher circuit densities is pushing manufacturers toward EUV systems and multiple patterning DUV systems.
For example, in December 2023, Nikon Corporation launched the NSR-S636E ArF immersion scanner featuring advanced distortion correction and high throughput capabilities. Such innovations are accelerating the transition toward more sophisticated IC designs and strengthening demand for lithography tools.
Growth Drivers
The expanding demand for semiconductor integrated circuits across mobile devices, electric vehicles, data centers, telecommunications, and automation technologies remains the strongest driver of market growth. Each new generation of chips requires substantially more intricate lithographic steps, pushing fabs to invest in both EUV and high-precision DUV technologies.
The rise of advanced packaging, including 3D ICs, 2.5D interposers, and fan-out wafer-level packaging (FO WLP), requires more complex lithography equipment capable of handling heterogeneous integration. As the shift toward chiplet-based architectures accelerates, lithography systems that support advanced packaging will be in increasingly high demand.
Restraints
Despite strong growth prospects, the market faces challenges stemming from the high complexity and cost of next-generation lithography systems. EUV machines require sophisticated optics, powerful light sources, advanced materials, and highly precise control systems. The technological barriers associated with mask defects, source power limitations, and process stability pose additional challenges. These factors contribute to long development cycles and significant capital investment requirements, limiting access to only the largest global foundries.
In 2024, DUV lithography dominated due to its maturity, lower cost, and suitability for a wide range of manufacturing steps. However, EUV lithography is projected to grow at the highest CAGR as manufacturers adopt smaller nodes for high-performance applications.
By technology, ArF immersion held the largest share due to its ability to produce sub-45nm features with high throughput. Meanwhile, mask aligners are expected to grow fastest due to demand across MEMS, optoelectronics, and small-scale fabrication.
In applications, advanced packaging accounted for the highest share, while the LED segment is projected to expand fastest due to the long lifespan and efficiency of LED light sources.
Europe held USD 11.77 billion in market value in 2024 and continues to lead worldwide adoption due to ASML's dominance in EUV technology and strong R&D partnerships. North America shows steady growth, driven by investments in semiconductor fabrication capacity and supply chain strengthening. Asia Pacific is expected to record the highest CAGR, supported by major foundries such as TSMC, Samsung, and SMIC, which require advanced lithography systems for next-generation chips.
Conclusion
With global demand for advanced semiconductors accelerating and generative AI enhancing innovation, the lithography equipment market is set for robust expansion-reaching USD 55.13 billion by 2032. As manufacturers pursue higher performance and smaller nodes, lithography will remain the cornerstone of semiconductor production worldwide.
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